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芯片研磨 华为芯片研磨设备升级,铸就精细工艺的关键芯力量
发布时间 : 2024-11-23
作者 : 小编
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华为芯片研磨设备升级,铸就精细工艺的关键芯力量

近期@手机参数君所发关于国产半导体芯片制程的帖子,其实算是上层对外的一次战术性佯攻。很多上下游从业人员尽管知道的碎片化,但伴随保密协议相信不会有人/组织能对外公布精确成果,所以还望大家多理解,大家只要知道行业动态亦或是点点滴滴的进步就可以了,不是嘛?[心]

今天老周和大家聊聊点滴进步中的华为芯片研磨设备的“进展”,放一百个心,给你们说的这些一定程度算是成熟的旧技术了!

芯片研磨设备有多重要?

长话短说,芯片研磨设备是一种用于半导体芯片制造过程中的关键设备,主要用于将晶圆上的芯片进行精细研磨,以达到平整、去除芯片表面的缺陷和污染物等目的,从而为后续的芯片制造工艺打下坚实的基础。

芯片研磨设备的主要组成部分包括研磨盘、晶圆夹具、研磨液和控制系统。研磨盘通常由硬度适中的材料制成,旋转时对晶圆上的芯片进行研磨。晶圆夹具用于固定晶圆,确保研磨过程的稳定性。研磨液则用于冷却和润滑研磨过程,提高研磨效果。控制系统则负责控制整个研磨过程,包括研磨压力、速度和时间等参数。

而诸如华为的麒麟9000S芯片,生产它们的研磨设备参数重点看研磨盘的转速、研磨压力、研磨液的流量和温度等。正是这些参数的选择和调整,才能保证了麒麟芯片效果和芯片的质量。各位是不是觉得很有趣呢?

华为的芯片研磨设备如何了?

目前华为芯片研磨设备具备用了国际先进的技术,具有以下几个显著特点:

(1)高精度:华为芯片研磨设备能够实现更高的切割精度,使得晶圆的厚度更加均匀,从而提高芯片的性能。

(2)高效率:华为芯片研磨设备采用了高效的研磨头和智能控制系统,大大提高了生产效率。

(3)智能化:华为芯片研磨设备配备了智能控制系统,能够根据芯片的材质和需求自动调整研磨参数,实现个性化制造。

(4)环保:华为芯片研磨设备在设计过程中充分考虑了环保因素,采用了低能耗和绿色环保的技术。

怎么样?如果了解的还不彻底,那不妨请大家看看披露的一些专利,如下:

新专利

【发明公布]】:研磨台、研磨头、研磨设备及研磨方法

一种研磨台(100),包括刚性本体(110),该刚性本体用于承载晶圆(20),刚性本体具有腔体,且研磨台还包括由腔体贯穿至刚性本体上表面的多个第一过孔(V1)和由腔体贯穿至刚性本体底部的第二过孔(V2);

在刚性本体的底部设置有减压装置(120),减压装置可以通过第二过孔对刚性本体内的腔体进行减压。一种研磨头(10),包括该研磨台和旋转部(200)。一种研磨设备,包括该研磨头和旋转盘(30)。以及一种采用该研磨设备进行研磨的研磨方法。

我们的目标:力挽狂澜之

相信众多伙伴讲携手华为,我们的芯片研磨设备将继续沿着高精度、高效率、智能化和环保的方向发展。

芯片研磨设备方面的发展体现了我国在芯片领域的不懈追求。相信在不久的将来,华为芯片研磨设备将会在全球市场上占据一席之地,为我国芯片产业的发展贡献力量。

各位,我们一起有幸见证啦![鼓掌]

从沙子蜕变为高科技的芯片需要几步?#研磨抛光#芯片#半导体

从沙子到芯片分几步?

你是否曾想过脚下那颗普通的沙子如何演变成推动现代科技的核心芯片?这是一次充满奇迹与技术的旅程,从大自然的精华到人类智慧的结晶,每一步都蕴藏着无限的奥秘和工艺的极致。

·第一步:提取纯净的硅。在无垠的沙漠或海岸,富含二氧化硅的石英砂是我们故事的起点。通过高温加热和化学处理将这些沙子中的硅提纯,得到高纯度的硅,这是芯片制造的基础,没有它我们的数字世界将无从谈起。

·第二步:制造单晶硅锭。纯净的硅在熔融状态下通过一种称为柴可拉斯基法的工艺被拉成单晶硅锭。这个过程需要极其精准的控制以确保单晶硅锭的完美结构。接下来硅锭被切割成薄片,形成我们所说的硅片或晶圆。

·第三步:硅片的研磨抛光。这些切割好的硅片并不平整,需经过研磨和抛光以确保其表面光滑无瑕。这一步至关重要,因为任何微小的缺陷都会影响后续的电路制造,导致芯片性能的不稳定。

·第四步:光刻技术的运用。光刻技术是芯片制造的核心工艺,通过将设计好的电路图案投射到硅片上,并利用光敏材料将图案转移形成微观的电路结构。现代光刻技术包括深紫外光刻和极紫外光刻,它们使得芯片上的电路越来越微小,越来越复杂。

·第五步:掺杂工艺。掺杂是指在硅片上引入特定的杂质元素,以改变导电性质。这一步骤通过离子注入技术精确地控制杂质浓度,使得硅片获得半导体特性,从而为芯片的功能实现奠定基础。

·第六步:层层叠加。现代芯片需要多层电路结构,通过反复进行光刻、掺杂和沉积工艺逐层构建出复杂的电路系统。这一过程需要极高的精度和洁净的生产环境,每一个步骤都在纳米尺度上控制以确保芯片的性能和可靠性。

·第七步:背部减薄抛光。芯片制造中的背部减薄抛光是为了通过减薄和抛光晶圆背面,达到减少晶圆厚度,改善芯片散热,提升电性能,增加机械柔韧的目的。这一工艺通过机械研磨和化学机械抛光等技术实现。是现代芯片制造中不可或缺的重要步骤。

·第八步:封装与测试。完成电路制造的硅片需要进行切割封装和测试。每个芯片在投入使用前都要经过严格的性能检测,包括功能测试、耐久性测试和环境适应性测试,以确保其能够在各种环境下稳定工作。

从一粒沙子到一片芯片,这不仅是科技进步的一次伟大旅程,更是人类智慧与创造力的完美体现。每一步都凝聚了无数工程师和科学家的心血与努力。这些看似不起眼的小小芯片正在驱动着我们的世界,从智能手机到超级计算机,从人工智能到物联网,无处不在的科技奇迹正在改变我们的生活,塑造我们的未来。

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